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小型蒸鍍儀的真空蒸發(fā)鍍膜法是在真空條件下加熱蒸發(fā)容器中的待蒸發(fā)材料，使其原子或分子氣化并從表面逸出，形成蒸汽流，進(jìn)入社會(huì)到基材的方法，或基材表面，并凝結(jié)成固體薄膜，特別適用于一些輕金屬的蒸發(fā)。同時(shí)也可以對(duì)樣品進(jìn)行鍍碳?？杉庸悠分睆綖?0mm，可提供100A鍍膜電流，蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，可滿足各種普通金屬和部分非金屬的蒸發(fā)。真空室采用高純度石英，具有鍍膜過程易觀察、易清洗等優(yōu)點(diǎn)；結(jié)合分子泵組，可達(dá)到5x10-4pa的極限真空，可有效保證蒸鍍膜的純度和附著力。小型蒸鍍儀將待...

小型蒸鍍儀生產(chǎn)用于SEM和TEM分析的均質(zhì)導(dǎo)電金屬或碳涂層。配置為濺射鍍膜機(jī)或碳絲蒸發(fā)鍍膜機(jī)后，可在全自動(dòng)系統(tǒng)中獲得可重復(fù)的結(jié)果，具有噴金儀、噴碳儀和蒸發(fā)儀三大功能。石英晶體測(cè)量、行星自轉(zhuǎn)、輝光放電和可更換屏蔽等多種選擇共同構(gòu)成了這臺(tái)低真空鍍膜機(jī)。小型蒸鍍儀是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀。儀器雖小，功能齊全，但具有電壓電流反饋、樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)、樣品高度調(diào)節(jié)、電動(dòng)擋板等功能。通過定期調(diào)整預(yù)濺射和薄膜沉積的功率，大多數(shù)金屬可以均勻地物理沉積。真空室由透明石英玻璃制成，以減少樣品...

3靶等離子濺射儀加熱溫度為500℃，控制面板為觸摸屏模式，可濺射三種靶材，放置直徑50mm樣品。通過旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，可以將金靶、銀靶和銅靶三種材料依次涂覆在同一樣品上，可接真空泵、不銹鋼波紋管、kfd25快卸夾。3靶等離子濺射儀是緊湊型等離子薄膜濺射儀（直流普通型）?？刂泼姘宀捎糜|摸屏方式?；宓臉O限尺寸為2"，放置樣品的直徑為?50mm，加熱溫度高達(dá)500℃，可濺射金、銀、銅靶材，但不能輕金屬和碳，本機(jī)采用旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，可在同一樣品上依次鍍?nèi)龑颖∧?，適用于實(shí)驗(yàn)室鍍膜樣品的制備。采...

真空管式爐節(jié)能環(huán)保，安全性高，全自動(dòng)產(chǎn)品，結(jié)構(gòu)合理，使用方便。超溫保護(hù)功能，當(dāng)溫度超過允許設(shè)定值時(shí)，自動(dòng)斷電并報(bào)警。漏電保護(hù)功能，當(dāng)爐體漏電時(shí)，自動(dòng)斷電。提到它，就不得不說說它的以下優(yōu)點(diǎn)。1、操作方便氣路連接采用快速連接法蘭結(jié)構(gòu)；簡(jiǎn)化了取放料過程，只需一個(gè)夾具即可完成氣路連接，操作方便；取消了復(fù)雜的法蘭安裝過程，減少了因安裝爐管而造成損壞的可能性。2、結(jié)構(gòu)實(shí)用性加熱爐由上下兩部分組成，上爐整體可向后翻轉(zhuǎn)，爐料采用纖維真空吸附，節(jié)能50%，均勻溫度場(chǎng)。密封法蘭采用雙環(huán)密封技術(shù)，...

目前，隨著真空爐在市場(chǎng)上的分類品種不斷增多之后，在加工熱處理的過程中，都有著多元化的技術(shù)要求，為的就是達(dá)到了理想的性能標(biāo)準(zhǔn)。這在熱處理方式上都必須要嚴(yán)格的去掌握好，才能夠確保在各方面的性能等級(jí)上會(huì)更高的。因此，小型真空管式爐在處理方面主要有哪些優(yōu)點(diǎn)呢？1、真空爐在加熱的時(shí)候，對(duì)工件表面上出現(xiàn)的氧化或者脫碳現(xiàn)象，是可以帶來了很好的清潔效果，因此完成加工之后，表面上是不會(huì)有著變質(zhì)層的，可以說對(duì)工件品質(zhì)的提高也是會(huì)起到了很大的幫助。掌握好這在加工處理方面的工藝性能和技術(shù)要求，才能夠...

3靶等離子濺射儀是一種基于兩極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)的簡(jiǎn)單，可靠且經(jīng)濟(jì)的涂覆設(shè)備。在真空室中安裝了三個(gè)靶材，旋轉(zhuǎn)的樣品臺(tái)可以在同一樣品上依次涂覆三種材料。因此，它適用于實(shí)驗(yàn)室中各種復(fù)合膜樣品的制備以及非導(dǎo)電材料實(shí)驗(yàn)電極的生產(chǎn)。1、電子束敏感樣品主要包括生物樣品，塑料樣品等。在與樣品相互作用的過程中，它以熱的形式將部分能量轉(zhuǎn)移到樣品中。如果樣品是對(duì)電子束敏感的材料，則這種相互作用將破壞部分甚至整個(gè)樣品結(jié)構(gòu)。在這種情況下，用非電子束敏感材料制成的表面涂層可以用作保護(hù)層，以防止這...

雙靶磁控濺射儀主要由陶瓷靶/電解液制備部分，電極膜沉積系統(tǒng)和惰性氣氛手套箱組成，主要組件包括有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室，真空排氣系統(tǒng)和真空測(cè)量系統(tǒng)，蒸發(fā)源，樣品加熱溫度控制，電氣控制系統(tǒng)，氣體分配系統(tǒng)，高溫?zé)Y(jié)爐，手套箱等零件。通過采用其中真空沉積室被手套箱包裹的結(jié)構(gòu)模型，將熱蒸發(fā)沉積室放置在手套箱中。在水和氧氣≤1PPM的氣氛中，可以更方便地完成：更換樣品，更換蒸發(fā)材料，連續(xù)制備鋰和金屬薄膜，陶瓷燒結(jié)和電池包裝；沉積室也可以通過過渡室取出。由于保護(hù)了惰性氣氛，因此在實(shí)驗(yàn)中可以提...